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Photomask Japan 2019(第26回 国際ホトマスクシンポジウム)

  • 学会・会議・シンポジウム
  • 展示会・見本市
Photomask Japan 2019(第26回 国際ホトマスクシンポジウム)

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内容

フォトマスク技術に関する国際会議および技術展示会
開催期間2019/04/16(火)~2019/04/18(木)
開催時間シンポジウム
4/16(火)9:00- 18:00
4/17(水)9:00- 20:20
4/18(木)9:00- 18:30
技術展示会
4/17(水)10:00- 18:00
4/18(木)10:00- 17:00
参加対象一般 関係者(会員・招待者含む)
料金有料
技術展示会のみ入場の場合は無料(当日登録制)
会場
  • アネックスホール
参加人数400人
連絡先ホトマスクジャパン事務局
pmj@jtbcom.co.jp
URLhttps://www.photomask-japan.org/

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